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能量色散X熒光光譜儀 多導毛細聚焦XRF
簡要描述:

晶圓測試設備,XAD-μ-wafer能量色散X熒光光譜儀 多導毛細聚焦XRF是一款專用于超小測量點或極薄涂層的分析測量的儀器,在柔性電路板、芯片封裝環節、晶圓微區的鍍層厚度和成分自動測試分析中盡顯優勢。可以測量微電子設備、高級線路板、連接器、引線框架和晶片的超微小區域。

  • 產品型號:XAD-μ-wafer
  • 廠商性質:經銷商
  • 更新時間:2025-09-10
  • 訪  問  量:154
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產品詳情

能量色散X熒光光譜儀 多導毛細聚焦XRF

能量色散X熒光光譜儀 多導毛細聚焦XRF是一款專用于超小測量點或極薄涂層的分析測量的儀器,在柔性電路板、芯片封裝環節、晶圓微區的鍍層厚度和成分自動測試分析中盡顯優勢。

可以測量微電子設備、高級線路板、連接器、引線框架和晶片的超微小區域。

 

1)搭載微聚焦加強型X射線發生器及多導毛細管技術,測量直徑可小至10μm

2)全景+微區雙相機設計,觀察樣品更為全面,微區小至微米級別的分辨率,實現更快速便捷的測試

3)基于EFP算法的新一代膜厚測量軟件EFP-T,支持基于標樣的定量分析,支持無標樣定性分析,可同時分析23個鍍層,24種元素

4)大面積高分辨率Dpp+Fast SDD探測器,優于125eV

5)測量元素范圍:鋁Al(13)-鈾U(92)

6)涂鍍層分析范圍:鋰Li(3)-鈾U(92)

7)安全互鎖、防夾手及Z軸防碰撞設置,V區激光保護,保護測量頭的同時,測量距離,可測樣品類型范圍更廣

配備全自動可編程移動平臺,可實現無人值守,對成百上千個樣品進行全自動檢測

能量色散X熒光光譜儀 多導毛細聚焦XRF

行業應用:Bumping(Solder Bump- Ag含量檢測)

Flip-Chip是優良封裝最大市場,Bumping是其主要的工藝,顯著提高集成密度。目前,頭部晶圓制造廠將Bump Pitch推進至10μm以下,國內大封裝廠挺近40μm。

Bumping/μ-Bumping,(微)凸塊制造技術是倒裝等發展演化的基礎工程,并延伸演化出TSV、WLP、2.5D/3D、MEMS等封裝結構與工藝,廣泛應用于5G、人工智能、云計算、可穿戴電子、物聯網、大數據處理及儲存等集成電路應用中。

錫銀凸塊制程中,無鉛焊錫:錫銀Sn-Ag, 錫銀銅Sn-Ag-Cu作為無鉛焊錫廣泛使用在PCB, Bump上。針對無鉛焊錫凸塊(Lead Free solder Bump)其中銀的濃度大小將直接影響焊錫的熔點和質量,因此在焊錫的質量管理中銀含量的濃度要求是十分嚴格的。而凸塊的面積很小, 在常規XRF小樣品小準直器光通量小下,不能精準分析其中的Ag含量,很難實現對產品工藝實時優化。

能量色散X熒光光譜儀 多導毛細聚焦XRF

行業應用:金屬薄膜沉積厚度及成分檢測(PVD/CVD)

芯片是由一系列有源和無源電路元件堆疊而成的3D結構,薄膜沉積是芯片前道制造的核心工藝之一。從芯片截取橫截面來看,芯片是由一層層納米級元件堆疊而成,所有有源電路元件(例如晶體管、存儲單元等)集中在芯片底部,另外的部分由上層的鋁/銅互連形成的金屬層及各層金屬之間的絕緣介質層組成。

薄膜的制備需要不同技術原理,因此導致薄膜沉積設備也需要不同技術原理,物理/化學等不同沉積方法相互補充。

薄膜沉積工藝主要分為物理和化學方法兩類

1)物理方法:指利用熱蒸發或受到粒子轟擊時物質表面原子的濺射等物理過程,實現物質原子從源物質到襯底材料表面的物質轉移。物理方法包括物理氣相沉積(Physical Vapor Deposition,PVD)、旋涂、電鍍(Electrondeposition/Electroplating,ECD/ECP)等

2)化學方法:把含有構成薄膜元素的氣態反應劑或液態反應劑的蒸汽,以合理的氣流引入工藝腔室,在襯底表面發生化學反應并在襯底表面上沉積薄膜。化學方法包括化學氣相沉積(Chemical Vapor Deposition,CVD)和外延(Epitaxy,EPI)等,

PVD主要用來沉積金屬及金屬化合物薄膜,最主要用于金屬互連籽晶層、阻擋層、硬掩膜、焊盤等。磁控濺射PVD主要用于Al金屬籽晶層、TiN金屬硬掩膜。磁控濺射PVD中的磁控DCPVD是應用廣泛的沉積方式,特別是對于平面薄膜的沉積,比如Al互連的金屬層,但在Cu互連(CuBs)中應用減少,32nm以下的TiN硬掩膜又開啟了這類技術的新應用。離子化PVD主要用于Al的阻擋層、CuBs中的阻擋層和籽晶層,也可以和金屬CVD結合用于沉積鎢栓塞中的Ti粘附層。

CVD常用于沉積絕緣介質薄膜,用于前段的柵氧化層、側墻、阻擋層、PMD等領域和后段的IMD、Barc、阻擋層、鈍化層等領域,另外CVD也可以制備金屬薄膜(如W等)。

XAD-μ-wafer搭載一六儀器國產自研的多導毛細光學系統,同時能夠提供小至10μm的光斑、上千倍的強度增益,可以解決Au、Ag、Al、Ti/TiN、V、Ni、W、Cu、Mo鍍層精準測試,常規金屬薄膜厚度檢出限可至1nm。

 

能量色散X熒光光譜儀 多導毛細聚焦XRF

能量色散X熒光光譜儀 多導毛細聚焦XRF

能量色散X熒光光譜儀 多導毛細聚焦XRF

 

EFP軟件操作界面截圖:

1. 清晰化操作界面布局

    簡約的布局設計,可令操作員快速的掌握軟件基本操作。

2. 程式快捷鍵按鈕設計

增加了日常鍍層程序快捷鍵設計按鈕,無需進入程序庫挑選,便可快速檢測,提升工作效率。

3. 高清全景微區可視化窗口

   可以清晰直觀的觀測到被檢測樣品的狀態,通過變焦調節旋鈕,達到用戶理想的觀測效果。

4. 儀器數據實時監測數據匯總

可一目了然的觀測到儀器所有數據,有任何異常,系統都將第一時間提醒,大大降低操作失誤。

 

 
產品名稱 能量色散X熒光光譜儀 多導毛細聚焦XRF
產品型號 XAD-μ-wafer
測量元素范圍

Al(13)- U(92)

涂鍍層分析范圍

Li(3)- U(92)

EFP算法

標配

分析軟件

同時分析23個鍍層,24種元素

不同層相同

元素檢測能力

標配

軟件操作

基于新一代的EFP算法,人性化封閉軟件,自動判斷故障提示校正及操作步驟,避免誤操作

X射線裝置

微聚焦加強型射線管,靶材可選:Mo、Rh、Cr、W

探測器

DPP+Fast SDD探測器70mm²

毛細聚焦光學器件

標配15μm FWHM(選配5-100μm)

濾光片

8種濾光片切換裝置

放大倍數

廣角+微區相機(光學放大330倍,數字放大1-6倍)

Z軸移動范圍

依樣品定制,適配行程可>100mm

樣品臺移動方式

全自動高精密XY平臺

樣品臺行程

300*300mm(可定制600*600mm)

其他附件

電腦一套、打印機、附件箱、十二元素片(可選配定制晶圓轉運器、尋邊器、真空吸附裝置等)

X射線標準

DIN ISO 3497、DIN 50987和ASTM B 568

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 
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